M区支架模体
M区支架模体主要测量机头M区内外泄露辐射,支架根据WS674的方法在不同位置的孔内放射热释光剂量片来测量泄漏辐射剂量应在模体中测量,模体各边比照射野至少大5cm;模体的深度至少比测量深度大5 cm,入射表面垂直于参考轴,放置在正常治疗距离。
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2025-03-03 - 02
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